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石墨烯生長(cháng)專(zhuān)用設備

卷對卷石墨烯膜生長(cháng)設備

名稱(chēng)

卷對卷連續化走絲BN沉積系統 RTR-1400C-III-60

設備型號：RTR-1400C-III-60 設備簡(jiǎn)介：該設備為我司研發(fā)用于材料連續生長(cháng)的專(zhuān)用設備，此款設備是快速冷卻卷對卷CVD連續生長(cháng)爐，它由高溫生長(cháng)加熱系統，真空密封腔室，剛玉管，SiC纖維卷繞部件，自動(dòng)化控制系統組成，兩端分別安裝有進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放卷的密封裝置），收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術(shù)具有快速冷卻、連續生長(cháng)的優(yōu)點(diǎn)。

名稱(chēng)

卷對卷連續生長(cháng)PECVD設備 RTR-III-80-PE

設備型號：RTR-III-80-PE 設備簡(jiǎn)介：該設備為我司研發(fā)用于石墨烯薄膜連續生長(cháng)或者線(xiàn)性材料的連續的專(zhuān)用設備，此款設備是快速冷卻卷對卷CVD連續生長(cháng)爐，它由高溫生長(cháng)腔體，三路質(zhì)量流量計氣路系統，真空機組，石英管，冷卻裝置，收放卷的密封裝置，自動(dòng)化控制系統組成，兩端分別安裝有進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放銅箔或纖維絲的密封裝置），收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術(shù)具有快速冷卻、連續生長(cháng)的優(yōu)點(diǎn)，可以進(jìn)行大面積、高質(zhì)量石墨烯的規?；L(cháng)或者線(xiàn)性材料的連續生長(cháng)。（纖維生長(cháng)工藝，配有纖維張力計，可以通過(guò)調節電機轉速，以便達到纖維連續進(jìn)出且受力均勻。）

名稱(chēng)

卷對卷連續化生長(cháng)CVD設備 RTR-III-80

設備型號：RTR-III-80 設備簡(jiǎn)介：該設備為我司研發(fā)用于石墨烯薄膜連續生長(cháng)或者線(xiàn)性材料的連續的專(zhuān)用設備，此款設備是快速冷卻卷對卷CVD連續生長(cháng)爐，它由高溫生長(cháng)腔體，三路質(zhì)量流量計氣路系統，真空機組，石英管，冷卻裝置，收放卷的密封裝置，自動(dòng)化控制系統組成，兩端分別安裝有進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放銅箔或纖維絲的密封裝置），收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術(shù)具有快速冷卻、連續生長(cháng)的優(yōu)點(diǎn)，可以進(jìn)行大面積、高質(zhì)量石墨烯的規?；L(cháng)或者線(xiàn)性材料的連續生長(cháng)。（纖維生長(cháng)工藝，配有纖維張力計，可以通過(guò)調節電機轉速，以便達到纖維連續進(jìn)出且受力均勻）

名稱(chēng)

大口徑動(dòng)態(tài)plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備 RTR-150

設備型號：RTR-150 設備簡(jiǎn)介：該設備為我司研發(fā)用于材料連續生長(cháng)的專(zhuān)用設備，此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續生長(cháng)爐，它由高溫生長(cháng)腔體，質(zhì)量流量計氣路系統，真空機組，RF射頻電源模塊，石英管，冷卻裝置，收放卷的密封裝置，自動(dòng)化控制系統組成，兩端分別安裝有進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放卷的密封裝置），收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術(shù)具有快速冷卻、連續生長(cháng)的優(yōu)點(diǎn)。

名稱(chēng)

卷對卷熱壓印-電化學(xué)快速鼓泡轉移設備

名稱(chēng)

大型卷對卷連續石墨烯膜生長(cháng)設備

設備簡(jiǎn)介：基于廣大科研界對實(shí)現大面積單層石墨烯薄膜在工業(yè)銅箔基底上卷對卷宏量制備的需求，我公司開(kāi)發(fā)出一種新的卷對卷連續快速生長(cháng)石墨烯薄膜的方法，設計并研制了可達到中試水平的石墨烯卷對卷化學(xué)氣相沉積系統，通過(guò)對石墨烯成核與生長(cháng)的調控實(shí)現高品質(zhì)石墨烯薄膜生長(cháng)；此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續生長(cháng)爐，它由高溫生長(cháng)腔體，三路質(zhì)量流量計氣路系統，真空機組，RF射頻電源模塊，石英管，冷卻裝置，收放銅箔的密封裝置，自動(dòng)化控制系統組成，兩端分別安裝有進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室和出料排氣真空腔室(即收放銅箔的密封裝置)，收放銅箔的密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術(shù)具有快速冷卻、連續生長(cháng)的優(yōu)點(diǎn)，可以進(jìn)行大面積、高質(zhì)量石墨烯的規?；L(cháng)。

名稱(chēng)

卷對卷薄膜石墨烯生長(cháng)設備 ROLL-TO-ROLL

設備簡(jiǎn)介：基于廣大科研界對實(shí)現大面積單層石墨烯薄膜在工業(yè)銅箔基底上卷對卷宏量制備的需求,我公司利用一種新型等離子增強卷對卷連續快速生長(cháng)石墨烯薄膜的方法，設計并研制了可達到中試水平的石墨烯卷對卷化學(xué)氣相沉積系統，通過(guò)對石墨烯成核與生長(cháng)的調控實(shí)現高品質(zhì)石墨烯薄膜生長(cháng);卷對卷熱壓印-電化學(xué)快速鼓泡轉移方法轉移，避免了銅箔刻蝕的常規轉移工藝，實(shí)現了石墨烯從銅箔生長(cháng)基底直接向工業(yè)用 PET 柔性透明塑料基底的連續化無(wú)損轉移。該設備在真空條件下，通過(guò)射頻電源作用于真空腔室內的稀薄氣體，形成等離子體等效輝光作用(本公司PECVD專(zhuān)利)，利用等離子體的場(chǎng)能部分代替了熱能，從而降低石墨烯生長(cháng)溫度，改善工藝條件。通過(guò)對石墨烯成核與生長(cháng)的調控實(shí)現高品質(zhì)石墨烯薄膜生長(cháng)。該方法使用銅箔作為基底，電機帶動(dòng)銅箔在密閉生長(cháng)條件下運動(dòng)，經(jīng)過(guò)第一溫區(退火區)處理后的銅箔;在第二、第三溫區(生長(cháng)區)石墨烯將沉積在銅箔上，并通過(guò)冷卻裝置后收緊成卷。相對于現有技術(shù)具有快速冷卻、連續生長(cháng)的優(yōu)點(diǎn)，可以進(jìn)行大面積、高質(zhì)量石墨烯的規?；L(cháng)。

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